工艺配套设备

工艺配套设备

面向薄膜、半导体及分析实验室的精密温控与溶剂管理方案——300 W至140 kW循环冷水机及自动化溶剂纯化系统。

21 设备型号
300W–140kW 制冷范围
±0.1°C 温控精度
产品概览

精密温控与溶剂管理

循环冷水机覆盖300 W台式机到140 kW工艺冷却器,并配备自动化溶剂纯化系统。专为PVD、CVD及分析仪器的热管理需求设计,全量程±0.1°C温控稳定性。

工艺配套设备

实验室循环冷水机

桌面/卧式/立式紧凑设计,配套小型分析仪器与温敏型实验设备。覆盖 300 W 到 6.4 kW 制冷量,±0.1°C 控温精度,温度范围 -40~95°C。

工业冷水机

风冷一体 / 水冷一体 / 风冷分体三种安装形式,覆盖 1.2 kW 到 270 kW 工业制冷需求,匹配真空镀膜、激光、半导体洁净室、CNC 等大功率工艺。

实验室气源

无油低露点空气源、静音无油空压机、空压机后端除水补强、一体式氮气发生器——分析仪器气源的整体方案。

EV 测试温控系统

新能源汽车电机/电控/电池包/变速器/混动发动机/OBC/DC-DC 测试温压平台,9 大子型号覆盖直冷、压力、储冷、油冷、迷你、双系统、氟直冷、产线、节能场景。

高低温循环 · 浴槽

宽温外循环、深低温外循环、恒温浴槽循环——化学反应、生物制药、低温提纯、材料测试、折射/粘度/旋蒸/电泳/色谱专用。

溶剂纯化系统

替代传统蒸馏的自动化溶剂纯化方案——按需输出 HPLC 级 (<10 ppm 水/氧) 超干溶剂,更安全、更高效、更环保。

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我们的应用工程师可以根据您的实验室配置,推荐最优的冷水机容量、冷却液类型或溶剂纯化方案。